Фотолитография в микроэлектронике формирует то или иное изображение на кремниевой подложке, после чего появляется необходимая типология микросхемы. Размер получаемых элементов рисунка зависит от длины волны излучения. До настоящего времени, напоминает издание "Стимул", монополистом в этой сфере была ASML из Нидерландов, введшая под давлением США санкции против Huawei. Вероятно, американское правительство планировало таким образом усложнить развитие микроэлектроники в Китае.
Однако несмотря на это китайская компания имеет большие планы. В частности, увеличить когерентность излучения, которое повысит разрешение и уменьшит проектные нормы установки. Вместе с тем эксперты, занимающиеся EUV-фотолитографией, которых опросило издание, отметили, что сомневаются в успешной реализации задумки и в компетенциях специалистов Huawei.
Ранее сообщалось, что ученые Сеченовского университета в сотрудничестве с коллегами из Института физиологически активных веществ РАН, Национального исследовательского университета "МИЭТ" и Института нанотехнологий микроэлектроники РАН разработали новую методику защиты глаз от лазерного излучения.